| 项目名称 | 大规模IC生产用90nm制版及0.35μm直写光刻 |
| 项目概况 | 目前国内研发机构与半导体制造厂光刻设备基本依赖进口，欧美日等半导体技术强国凭借对集成电路设计、设备制造、材料产业的控制，占据着产业链的高端，大力发展国产集成电路关键设备已经成为政府、经济界、企业界的重要责任。芯硕公司于2008年开始向市场提供亚微米级无掩膜直写式光刻机，成功实现商业销售，填补国内空白。 无掩膜直写式光刻机相对于使用掩膜板的方法，在光刻方面提供了许多益处，它利用图形发生器产生的电子掩膜取代了造价高昂的掩膜板，相对于步进式或扫描式光刻机必须加工掩膜板才能光刻的情况，缩短了光刻设计加工周期，降低了光刻工艺的成本，提高了产品设计及测试的效率，广泛应用于微型电子器件制造、半导体工艺、磁头工艺、MEMS、生物芯片、科研及军工诸领域。 经过三年对亚微米直写式光刻机的自主研发，芯硕公司已成功开发出大规模IC生产0.15μm制版和0.65μm直写光刻设备并成功推向市场，成为中国内地唯一有能力研发、生产、销售大规模IC生产用0.15μm制版和0.65μm直写光刻设备的专业设备商，这为下阶段开发大规模IC生产用90nm制版及0.35μm直写光刻设备打下了坚实基础，大大缩短研发周期。 |
| 项目分类 | 先进制造业 |
| 项目建设内容和规模 | 无掩膜直写式光刻机相对于使用掩膜板的方法，在光刻方面提供了许多益处，它利用图形发生器产生的电子掩膜取代了造价高昂的掩膜板，相对于步进式或扫描式光刻机必须加工掩膜板才能光刻的情况，缩短了光刻设计加工周期，降低了光刻工艺的成本，提高了产品设计及测试的效率，广泛应用于微型电子器件制造、半导体工艺、磁头工艺、MEMS、生物芯片、科研及军工诸领域。 |
| 项目地址 | 合肥经济技术开发区习友路与锦绣大道交口 |
| 产品市场分析 | 目前国内研发机构与半导体制造厂光刻设备基本依赖进口，欧美日等半导体技术强国凭借对集成电路设计、设备制造、材料产业的控制，占据着产业链的高端，大力发展国产集成电路关键设备已经成为政府、经济界、企业界的重要责任。芯硕公司于2008年开始向市场提供亚微米级无掩膜直写式光刻机，成功实现商业销售，填补国内空白。 |
| 经济效益和社会效益分析 | 本项目2011年试产，完成国内国际市场渠道铺设，启动既定市场，完成产值15593万元；2012年投产，实现销售收入31185万元；2013年达产，完成销售47250万元。产品形成规模销售时，销售利润率为40.97%，财务内部收益率为50.16% |
| 投资估算和资金筹措 | 项目总投资30000万元，固定资产投资 8000万元 ；流动资金 7022万元 融资额度7000万元 |
| 联系单位 | 芯硕半导体（中国）有限公司 |
| 联系人 | 刘军、陈晓燕 |
| 联系电话 | 0551-3853683-6034 |
| 传真 | 0551-3853583 |
| 通讯地址 | 合肥经济技术开发区习友路与锦绣大道交口 |
| 电子信箱 | xychen@advantools-global.com |
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大规模IC生产用90nm制版及0.35μm直写光刻
2011-08-18 发布
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